21pXL-5 高品位H:Si(111)1×1表面作成法と表面フォノン(表面界面ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)
書誌事項
- タイトル別名
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- 21pXL-5 Preparation of High Quality Si (111)1×1 Surface
収録刊行物
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- 日本物理学会講演概要集
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日本物理学会講演概要集 62.2.4 (0), 917-, 2007
一般社団法人 日本物理学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001206012457088
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- NII論文ID
- 110007141878
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- ISSN
- 21890803
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles