21pXL-5 高品位H:Si(111)1×1表面作成法と表面フォノン(表面界面ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)

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タイトル別名
  • 21pXL-5 Preparation of High Quality Si (111)1×1 Surface

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001206012457088
  • NII論文ID
    110007141878
  • DOI
    10.11316/jpsgaiyo.62.2.4.0_917_4
  • ISSN
    21890803
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles

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