書誌事項
- タイトル別名
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- Layered Structure of Sputter Deposited Indium Zinc Oxide Films
- スパッタホウ ニ ヨリ サクセイ シタ サンカ インジウム サンカ アエンマク ノ シュウキテキ ソウジョウ コウゾウ
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説明
Layered structure of indium zinc oxide (IZO) films sputter deposited on a (001) sapphire substrate at temperatures of 673 and 873 K was investigated by electron microscopy. IZO films were grown epitaxially in [001] direction on a sapphire substrate. Lattice distances of a deposited IZO film were close to those of an In2ZnkOk+3 compound estimated from In-Zn ratio of the film. Periodical layered structure was observed in the films of k=1, 2, and 3, when the substrate temperature was 873 K. Crystal structure and lattice parameters of the compound of k=1, In2ZnO4 was determined as a=0.3392 nm, c=2.627 nm with the rhombohedral structure.<br>
収録刊行物
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- 日本金属学会誌
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日本金属学会誌 78 (2), 82-89, 2014
公益社団法人 日本金属学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001206482796416
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- NII論文ID
- 130004786456
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- NII書誌ID
- AN00187860
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BC2cXls1Shsro%3D
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- ISSN
- 18806880
- 24337501
- 00214876
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- NDL書誌ID
- 025186420
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDLサーチ
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可