書誌事項
- タイトル別名
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- Application of Atomic Absorption Analysis to Impurity Diffusion of Copper in Nickel in a Wide Range of Temperature
- ゲンシ キュウコウ ブンセキホウ ニ ヨル ヒロイ オンド ハンイ ニ オケル
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抄録
Atomic absorption analysis has been used to study the impurity diffusion of copper in nickel in the temperature range between 1080 and 1613 K. The linear Arrhenius plot of the impurity diffusion coefficient of Cu in Ni has been expressed as follows:<BR>(This article is not displayable. Please see full text pdf.) <BR>\oindentAtomic absorption analysis is found to be useful to measure the penetration profile for the impurity diffusion in metals where suitable radioisotope as a tracer is unavailable or the half-life of radioisotope is very short.
収録刊行物
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- 日本金属学会誌
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日本金属学会誌 48 (1), 20-24, 1984
公益社団法人 日本金属学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001206485270656
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- NII論文ID
- 40002875732
- 130007338713
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- NII書誌ID
- AN00187860
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- ISSN
- 18806880
- 24337501
- 00214876
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- NDL書誌ID
- 2974226
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可