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- 石井 清
- 宇都宮大学大学院 電気電子システム工学専攻
書誌事項
- タイトル別名
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- Vacuum evaporation and sputtering: introduction to thin film preparation
- 今さら聞けない? 基礎中の基礎 薄膜作製のイロハ,真空蒸着法とスパッタリング法
- イマサラ キケナイ キソ チュウ ノ キソ ハクマク サクセイ ノ イロハ シンクウ ジョウチャクホウ ト スパッタリングホウ
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説明
<p>原子や分子の堆〔たい〕積〔せき〕による薄膜作製技術は，電子デバイスや電子機器，光学部品などのさまざまな産業分野において不可欠な技術であるとともに，未知の物質の合成を可能にする大きな魅力を有している．その最も基本的な技術である真空蒸着法とスパッタリング法について，その原理と特徴を述べる．</p>
収録刊行物
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- 応用物理
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応用物理 80 (7), 626-630, 2011-07-10
公益社団法人 応用物理学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001277358994432
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- NII論文ID
- 10029101728
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- NII書誌ID
- AN00026679
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- NDL書誌ID
- 11167748
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- 本文言語コード
- ja
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- 資料種別
- journal article
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- データソース種別
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- JaLC
- NDLサーチ
- CiNii Articles
- KAKEN
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
