4H-SiC電力素子中でのREDG効果により成長したShockley型積層欠陥の形状についての解析

  • 松畑 洋文
    産業技術総合研究所,先進パワーエレクトロニクス研究センター
  • 関口 隆史
    筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Analysis on the Shapes of the Shockley type Stacking Faults Generated by the REDG Effect in the 4H-SiC Power Devices
  • 4H-SiC デンリョク ソシ チュウ デ ノ REDG コウカ ニ ヨリ セイチョウ シタ Shockleyガタ セキソウ ケッカン ノ ケイジョウ ニ ツイテ ノ カイセキ
公開日
2020-08-31
DOI
  • 10.5940/jcrsj.62.150
公開者
日本結晶学会

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説明

<p>A complete set of 12 different dissociated states of basal-plane dislocation loops in 4H-SiC has been derived from experimental observations and crystallographic space group discussion. We have observed dissociated states of dislocations in 4H-SiC power devices using synchrotron X-ray Berg-Barrett topography, and analysis results are summarized. The arrangement of the results is used to discuss the shapes of Shockley-type stacking faults which were generated by recombination enhanced dislocation glide. The list of the dissociated states of basal-plane dislocation loops is useful also for the analysis of dislocation structures in hexagonal lattice.</p>

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