表面波プラズマ励起化学気相堆積法によるシリコン酸化膜の堆積と評価
書誌事項
- タイトル別名
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- Deposition and characterization of silicon dioxide film formed by surface-wave plasma enhanced chemical vapor deposition
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2017.1 (0), 3150-3150, 2017-03-01
公益社団法人 応用物理学会