書誌事項
- タイトル別名
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- Targets for High Rate Reactive Sputtering. Propose of Reactive Sputtering using Solid Oxygen Source for Low-Temperature and High Deposition Rate Fabrication of Pb(Zr,Ti)O3 Thin Film.
- Pb Zr Ti O3 ハクマク ノ テイオン コウソク タイセキヨウ ノ コタイ サンソ キョウキュウ ゲン ニ ヨル ハンノウセイ スパッタホウ ノ テイアン
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説明
A new film deposition technique by reactive sputtering using a metal-oxide combined targe (ZrTi + PbO) was proposed and the film growth mechanism was discussed. By the technique perovskite Pb (Zr, Ti) O3 (PZT) films could be grown at a substrate temperature as low as 450°C. Oxygen atoms for the reactive sputtering was not supplied from introduced O2 gas but from the PbO oxide target. The oxygen flux from the PbO solid source plays an important role to crystallize the perovskite PZT films.
収録刊行物
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- 真空
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真空 43 (8), 785-789, 2000
一般社団法人 日本真空学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679040251904
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- NII論文ID
- 10004562677
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- NII書誌ID
- AN00119871
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- ISSN
- 18809413
- 05598516
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- NDL書誌ID
- 5476082
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
