高周波マグネトロンスパッタリング法によるＰｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３圧電薄膜の量産技術

DOI Web Site 被引用文献1件 参考文献10件
  • 木村 勲
    株式会社アルバック半導体技術研究所
  • 西岡 浩
    株式会社アルバック半導体技術研究所
  • 菊地 真
    株式会社アルバック半導体技術研究所
  • 鄒 紅コウ
    株式会社アルバック半導体技術研究所

書誌事項

タイトル別名
  • The Mass Production Technology of Pb (Zr, Ti)O3 Piezoelectric Thin Film by Radio Frequency Magnetron Sputtering
  • コウシュウハ マグネトロン スパッタリングホウ ニ ヨル Pb Zr Ti O3 アツデン ハクマク ノ リョウサン ギジュツ

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抄録

  In this study, SME-200 (ULVAC and Inc.) was the mass production system of a PZT deposition got over the problems, and it was there, and deposition temperature of PZT thin films were investigated as a parameter by this research. (100)/(001) and (111) oriented Pb(Zr, Ti)O3 Piezoelectric thin films were fabricated on (111)Pt/Ti/SiO2/Si substrate using a RF magnetron sputtering technique. Polarization and displacement in these films were simultaneously observed through an atomic force microscope (AFM) that was attached to a ferroelectric test system. As a result, 3-μm-thick PZT film with Pr value of 41 μm/cm2 at an applied voltage of 30 V were obtained for (100)/(001) oriented film.<br>

収録刊行物

  • 真空

    真空 49 (3), 174-176, 2006

    一般社団法人 日本真空学会

被引用文献 (1)*注記

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参考文献 (10)*注記

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