超臨界流体と表面処理技術　　超臨界二酸化炭素処理技術のフォトリソグラフィへの応用と微小レジストパターンの密着強度への影響

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タイトル別名
  • Effects of Supercritical Carbon Dioxide on Adhesive Strength of Microsized Photoresist Patterns in Photolithography
  • 超臨界二酸化炭素処理技術のフォトリソグラフィへの応用と微小レジストパターンの密着強度への影響
  • チョウリンカイ ニサンカ タンソ ショリ ギジュツ ノ フォトリソグラフィ エ ノ オウヨウ ト ビショウ レジストパターン ノ ミッチャク キョウド エ ノ エイキョウ

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収録刊行物

  • 表面技術

    表面技術 61 (8), 571-577, 2010

    一般社団法人 表面技術協会

参考文献 (57)*注記

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