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- 石山 千恵美
- 東京工業大学 精密工学研究所
書誌事項
- タイトル別名
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- Effects of Supercritical Carbon Dioxide on Adhesive Strength of Microsized Photoresist Patterns in Photolithography
- 超臨界二酸化炭素処理技術のフォトリソグラフィへの応用と微小レジストパターンの密着強度への影響
- チョウリンカイ ニサンカ タンソ ショリ ギジュツ ノ フォトリソグラフィ エ ノ オウヨウ ト ビショウ レジストパターン ノ ミッチャク キョウド エ ノ エイキョウ
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収録刊行物
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- 表面技術
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表面技術 61 (8), 571-577, 2010
一般社団法人 表面技術協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679094976128
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- NII論文ID
- 10026542580
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- NII書誌ID
- AN1005202X
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BC3cXht12msb3E
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- ISSN
- 18843409
- 09151869
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- NDL書誌ID
- 10804323
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles