表面再構成構造を利用したSiへの希土類元素の高濃度ドーピング

  • 宮田 祐輔
    大阪府立大学 大学院工学研究科 電子·数物系専攻
  • 奥山 祥孝
    大阪府立大学 大学院工学研究科 電子·数物系専攻
  • 藤村 紀文
    大阪府立大学 大学院工学研究科 電子·数物系専攻

書誌事項

タイトル別名
  • High-concentration Rare Earth Ion Doping to Si Using Reconstructed Surface Structure
  • ヒョウメン サイコウセイ コウゾウ オ リヨウ シタ Si エ ノ キドルイ ゲンソ ノ コウノウド ドーピング

この論文をさがす

収録刊行物

  • Journal of Smart Processing

    Journal of Smart Processing 2 (5), 219-223, 2013-09-20

    一般社団法人 スマートプロセス学会 (旧高温学会)

参考文献 (34)*注記

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ