マイクロ波プラズマCVD法によるα-Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>膜の合成

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Preparation of alpha-Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> films by microwave plasma CVD

抄録

超硬合金等の工具材料のトップコートには、主に化学気相析出法(CVD)により作製されたα-Al2O3が用いられている。しかし、CVDでは成膜温度が高く、工具材料の機械的性質が低下する等の問題がある。そこで、本研究では、マイクロ波プラズマCVD法を用いて低温でのα-Al2O3膜の合成を試みた。マイクロ波出力 PM < 1.0 kW、基板ステージ温度 Tstage < 650℃では、カリフラワー状の微細組織を有するα-Al2O3とγ-Al2O3の混合相膜が得られた。PM = 1.2 kW、Tstage = 750℃では、柱状晶組織を有するα-Al2O3単一相膜が得られた。α-Al2O3膜の成膜速度はPM = 1.2 kW、Tstage = 750℃で最大値 (15 μm / h) を示した。

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680595086336
  • NII論文ID
    130006976844
  • DOI
    10.14853/pcersj.2009f.0.1m08.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ