Preparation of alpha-Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> films by microwave plasma CVD

DOI

Bibliographic Information

Other Title
  • マイクロ波プラズマCVD法によるα-Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>膜の合成

Abstract

超硬合金等の工具材料のトップコートには、主に化学気相析出法(CVD)により作製されたα-Al2O3が用いられている。しかし、CVDでは成膜温度が高く、工具材料の機械的性質が低下する等の問題がある。そこで、本研究では、マイクロ波プラズマCVD法を用いて低温でのα-Al2O3膜の合成を試みた。マイクロ波出力 PM < 1.0 kW、基板ステージ温度 Tstage < 650℃では、カリフラワー状の微細組織を有するα-Al2O3とγ-Al2O3の混合相膜が得られた。PM = 1.2 kW、Tstage = 750℃では、柱状晶組織を有するα-Al2O3単一相膜が得られた。α-Al2O3膜の成膜速度はPM = 1.2 kW、Tstage = 750℃で最大値 (15 μm / h) を示した。

Journal

Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390282680595086336
  • NII Article ID
    130006976844
  • DOI
    10.14853/pcersj.2009f.0.1m08.0
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

Report a problem

Back to top