マイクロ波プラズマCVD法によるα-Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>膜の合成
書誌事項
- タイトル別名
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- Preparation of alpha-Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> films by microwave plasma CVD
説明
超硬合金等の工具材料のトップコートには、主に化学気相析出法(CVD)により作製されたα-Al2O3が用いられている。しかし、CVDでは成膜温度が高く、工具材料の機械的性質が低下する等の問題がある。そこで、本研究では、マイクロ波プラズマCVD法を用いて低温でのα-Al2O3膜の合成を試みた。マイクロ波出力 PM < 1.0 kW、基板ステージ温度 Tstage < 650℃では、カリフラワー状の微細組織を有するα-Al2O3とγ-Al2O3の混合相膜が得られた。PM = 1.2 kW、Tstage = 750℃では、柱状晶組織を有するα-Al2O3単一相膜が得られた。α-Al2O3膜の成膜速度はPM = 1.2 kW、Tstage = 750℃で最大値 (15 μm / h) を示した。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2009F (0), 1M08-1M08, 2009
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680595086336
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- NII論文ID
- 130006976844
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可