グレースケールレーザビームリソグラフィとドライエッチング法を併用したインプリント工程用多段型の製作

DOI
  • YOUN SUNGWON
    産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究センター
  • 朴 相天
    産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究センター
  • 王 清
    産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究センター
  • 鈴木 健太
    産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究センター
  • 廣島 洋
    産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究センター

書誌事項

タイトル別名
  • Fabrication of multi-tier molds using a gray-scale laser beam lithography and dry etching

説明

グレースケールレーザビームリソグラフィはレーザ描画中の照射量を制御することによって多段あるいは波形曲面をレジストに簡単に低コストで作製する工程である. 本研究では，G-LBL法を多段型(Si及び石英)とグレースケール光学部品製作に適用するための基礎研究を行なった. 相対レーザ照射量と現像後のレジスト膜厚及び干渉色との関係を調べた上，そのデータを基に，カラーフィルター用試作パターン構造を形成した. また，反応性イオンエッチングを併用して多段Siと石英型を製作し，その型としての有効性を光インプリント実験評価を通して確認した.

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キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680630740864
  • NII論文ID
    130005030849
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2011s.0.771.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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