Improvement of Finishing Efficiency Considering Contact Behavior of Polishing Pad with Workpiece Surface
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- Naito Tatsuya
- Osaka University
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- Sato Motoki
- Osaka University
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- Satake Urara
- Osaka University
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- Sugihara Tatsuya
- Osaka University
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- Enomoto Toshiyuki
- Osaka University
Bibliographic Information
- Other Title
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- 研磨パッドの表面状態に着目した高能率研磨加工に関する研究
Abstract
昨今のハードディスクドライブ(HDD)の市場拡大にともない,HDDに搭載される磁気ディスクの低価格化が強く望まれている.そのため,磁気ディスクガラス基板の研磨加工に対して,極めて高い加工能率が求められるようになった.そこで本研究では,スエード研磨パッドの表面状態に着目し,加工能率に影響を及ぼす要因を検討した.その結果,ガラス基板を高能率で研磨加工することができたので報告する.
Journal
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- Proceedings of JSPE Semestrial Meeting
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Proceedings of JSPE Semestrial Meeting 2012S (0), 311-312, 2012
The Japan Society for Precision Engineering
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680633018880
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- NII Article ID
- 130005031178
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed