Characterization of ZrON thin films prepared by reactive sputtering using a hollow cylindrical cathode
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- Iwata Hiroshi
- Faculty of Engineering, Yokohama National University
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- Ishii Hiroki
- Faculty of Engineering, Yokohama National University
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- Kato Daiki
- Faculty of Engineering, Yokohama National University
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- Kawashima Shohei
- Faculty of Engineering, Yokohama National University
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- Kodama Kakeru
- Faculty of Engineering, Yokohama National University
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- Tanaka Masatoshi
- Faculty of Engineering, Yokohama National University
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- Sekiya Takao
- Faculty of Engineering, Yokohama National University
Bibliographic Information
- Other Title
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- 中空円筒型カソードを用いた反応性スパッタリングにより作成したZrON薄膜の特性
Abstract
ZrON系薄膜を石英ガラス、グラッシーカーボン基板上に中空円筒形カソードを用いた反応性スパッタリングにより作成した。X線回折から、薄膜はZrN、Zr2ON2、ZrO2の混合相で構成され、酸素流量に依存していた。XPS測定により、Zr3dバンドを評価した。電気化学測定では、酸素流量が0.4の酸化還元電位が最高であった。<br>
Journal
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- Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan
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Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 37 (0), 98-, 2017
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680656064768
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- NII Article ID
- 130005974879
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed