Effect of Ambient Atmosphere on Abnormal Degradation Behavior in Metal-Oxide Thin-Film Transistor under Positive Gate-Bias and Temperature Stress
書誌事項
- 公開日
- 2019-11-28
- DOI
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- 10.36463/idw.2019.amdp1-17
- 公開者
- 一般社団法人ディスプレイ国際ワークショップ
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収録刊行物
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- Proceedings of the International Display Workshops
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Proceedings of the International Display Workshops 551-, 2019-11-28
一般社団法人ディスプレイ国際ワークショップ
