混合前駆体原料を用いたMOCVD法によるHfZrO<sub>2</sub>極薄膜の作製 ... ...

DOI

中野元太

東理大理
中嶋宇史

東理大理 JST さきがけ
橋爪洋一郎

東理大理
岡村総一郎

東理大理

書誌事項

タイトル別名

Fabrication of HfZrO<sub>2</sub> thin film from mixed precursor using MOCVD ... ... ...

収録刊行物

応用物理学会学術講演会講演予稿集

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2018.2 (0), 1331-1331, 2018-09-05

公益社団法人応用物理学会

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詳細情報詳細情報について

CRID

1390293434337253760
DOI

10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_1331
ISSN

24367613
本文言語コード

ja
データソース種別
- JaLC

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