スパッタ法によるB-ion-implanted BaSi<sub>2</sub>膜の作製と評価

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Fabrication and evaluation of B-ion-implanted BaSi<sub>2</sub> films by prepared sputtering

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390297205563321728
  • DOI
    10.57295/jpvsproc.3.0_85
  • ISSN
    24366498
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC

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