アクリル定盤と水によるシリコンウエハー表面の平坦化
書誌事項
- タイトル別名
-
- Flattening the surface of a silicon wafer with acrylic plate and water
抄録
<p>半導体デバイスや光学素子であるミラーの表面作製では、現在原子レベルの超平坦化技術が用いられている。これまでの研究で、様々な有機材料の中でアクリルを定盤に利用することで、水だけでガラス表面の原子レベル平坦化加工を実現した。本研究では、本手法をシリコンウェハー表面の平坦化に応用し、RMS0.08nmの原子レベルで平滑な面であることを確認した。</p>
収録刊行物
-
- 精密工学会学術講演会講演論文集
-
精密工学会学術講演会講演論文集 2021A (0), 121-122, 2021-09-08
公益社団法人 精密工学会