スパッタリング法で室温合成した(Al<sub>1-<i>x</i></sub>Sc<i><sub>x</sub></i>)N膜の強誘電性評価

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  • Ferroelectric properties of room temperature-deposited (Al<sub>1-<i>x</i></sub>Sc<i><sub>x</sub></i>)N films by the sputtering method.

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