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ムーンショット型研究開発事業
【2023年10月31日掲載】CiNii Dissertations及びCiNii BooksのCiNii Researchへの統合について
新「国立国会図書館サーチ」公開によるCiNiiサービスへの影響について
実験的サービス公開サイトであるCiNii Labsを公開しました。
ノボラック系ポジ型レジストにおける溶解抑制剤のエステル化率とリソグラフィー特性の関係
DOI
齊藤 誠二
金沢工大
松田 卓也
金沢工大
石黒 啓太
金沢工大
高橋 聖司
金沢工大
河野 昭彦
金沢工大
関口 淳
リソテックジャパン
谷口 克人
AZエレクトロニックマテリアルズ
田中 初幸
AZエレクトロニックマテリアルズ
堀邊 英夫
金沢工大
収録刊行物
応用物理学会学術講演会講演予稿集
応用物理学会学術講演会講演予稿集 2013.1 (0), 1499-1499, 2013-03-11
公益社団法人 応用物理学会
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キーワード
28p-B2-8
ビーム応用
リソグラフィ
esterification rate
lithographic properties
novolak resists
詳細情報
詳細情報について
CRID
1390860322101077760
DOI
10.11470/jsapmeeting.2013.1.0_1499
ISSN
24367613
本文言語コード
ja
データソース種別
JaLC
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