大気圧VHFプラズマを用いた2段階プロセスによるポーラスSiO<sub><i>x</i></sub>コーティングプロセスの研究

DOI
  • 山内 怜大
    大阪大 工学研究科 物理学系専攻 精密工学コース
  • 水澤 直人
    大阪大 工学研究科 物理学系専攻 精密工学コース
  • 広本 恒輝
    大阪大 工学研究科 物理学系専攻 精密工学コース
  • 大参 宏昌
    大阪大 工学研究科 物理学系専攻 精密工学コース
  • 垣内 弘章
    大阪大 工学研究科 物理学系専攻 精密工学コース

抄録

<p>我々は大気圧VHFプラズマCVD法を用いたポーラスSiOx薄膜の低温・高速形成技術の開発を進めている。本研究では、ガラスやアクリルなどの透明基材上にHMDSO(hexamethyldisiloxane)とポリスチレンラテックス粒子を用いた独自のポーラスSiOx反射防止コーティング形成プロセスを提案した。今回は、本プロセスによって作製したポーラスSiOx反射防止コーティングの膜構造および反射防止特性について報告する。</p>

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390862268805519616
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2023a.0_672
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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