大気圧VHFプラズマを用いた2段階プロセスによるポーラスSiO<sub><i>x</i></sub>コーティングプロセスの研究

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Abstract

<p>我々は大気圧VHFプラズマCVD法を用いたポーラスSiOx薄膜の低温・高速形成技術の開発を進めている。本研究では、ガラスやアクリルなどの透明基材上にHMDSO(hexamethyldisiloxane)とポリスチレンラテックス粒子を用いた独自のポーラスSiOx反射防止コーティング形成プロセスを提案した。今回は、本プロセスによって作製したポーラスSiOx反射防止コーティングの膜構造および反射防止特性について報告する。</p>

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