大気圧VHFプラズマを用いた2段階プロセスによるポーラスSiO<sub><i>x</i></sub>コーティングプロセスの研究
抄録
<p>我々は大気圧VHFプラズマCVD法を用いたポーラスSiOx薄膜の低温・高速形成技術の開発を進めている。本研究では、ガラスやアクリルなどの透明基材上にHMDSO(hexamethyldisiloxane)とポリスチレンラテックス粒子を用いた独自のポーラスSiOx反射防止コーティング形成プロセスを提案した。今回は、本プロセスによって作製したポーラスSiOx反射防止コーティングの膜構造および反射防止特性について報告する。</p>
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2023A (0), 672-673, 2023-08-31
公益社団法人 精密工学会