HfO2系High-k材料向けのin-situチャンバークリーニング技術の開発
書誌事項
- タイトル別名
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- HfO2ケイ High k ザイリョウ ムケ ノ in situ チャンバー クリーニング ギジュツ ノ カイハツ
- Development of in-situ chamber cleaning technology for Hf-base High-k materials
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説明
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
収録刊行物
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- 大陽日酸技報
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大陽日酸技報 (26), 7-11, 2007
東京 : 大陽日酸技術本部技報編集事務局