電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタ法を用いた高品質薄膜形成
書誌事項
- タイトル別名
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- トピックス 電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタ法を用いた高品質薄膜形成
- トピックス デンシ サイクロトロン キョウメイ ECR スパッタホウ オ モチイタ コウヒンシツ ハクマク ケイセイ
- Deposition of High Quality Thin Films Using Electron Cyclotron Resonance (ECR) Plasma Sputtering
- トピックス 電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタ法を用いた高品質薄膜形成
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説明
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
収録刊行物
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- 日本応用磁気学会誌
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日本応用磁気学会誌 26 (6), 823-828, 2002
東京 : 日本磁気学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520290882147228416
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- NII論文ID
- 110002811360
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- NII書誌ID
- AN0031390X
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- ISSN
- 02850192
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- NDL書誌ID
- 6176117
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- データソース種別
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- NDLサーチ
- NDLデジコレ（旧NII-ELS）
- CiNii Articles