SiナノワイヤへのNiシリサイド形成と過剰な侵入とその抑制に関する検討
Bibliographic Information
- Other Title
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- Si ナノワイヤ エ ノ Ni シリサイド ケイセイ ト カジョウ ナ シンニュウ ト ソノ ヨクセイ ニ カンスル ケントウ
- Nickel silicide encroachment in silicon Nanowire and its suppression
- シリコン材料・デバイス
- シリコン ザイリョウ デバイス
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Journal
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- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 110 (90), 17-22, 2010-06-22
東京 : 電子情報通信学会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520290883159491840
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- NII Article ID
- 110007890338
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- NII Book ID
- AA1123312X
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- ISSN
- 09135685
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- NDL BIB ID
- 10752898
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles
