窒化ガリウムスパッタリングターゲットを用いたSi基板上エピタキシャル成膜と評価
書誌事項
- タイトル別名
-
- チッカ ガリウムスパッタリングターゲット オ モチイタ Si キバン ジョウ エピタキシャルセイマク ト ヒョウカ
- Fabrication and Characterization of Epitaxial Film on Si Substrate with GaN Sputtering Target
この論文をさがす
説明
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
収録刊行物
-
- 東ソー研究・技術報告 = Tosoh research & technology review / 東ソー株式会社東ソー研究・技術報告編集委員会 編
-
東ソー研究・技術報告 = Tosoh research & technology review / 東ソー株式会社東ソー研究・技術報告編集委員会 編 65 (102), 3-10, 2021
周南 : 東ソー
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1520291856312935296
-
- NII論文ID
- 40022781307
-
- NII書誌ID
- AA11500962
-
- ISSN
- 13463039
-
- NDL書誌ID
- 031891583
-
- 本文言語コード
- ja
-
- NDL 雑誌分類
-
- ZP8(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業)
-
- データソース種別
-
- NDL
- CiNii Articles