書誌事項
- タイトル別名
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- キョクタン シガイコウ リソグラフィーヨウ レジスト カイハツ : レジスト ナイ デ ノ ゾウ ケイセイ ト イウ シテン カラ
- Development of Extreme Ultraviolet Resists : From the Viewpoint of Image Formation in Resist Materials
- 実用化に向かう極端紫外リソグラフィー
- ジツヨウカ ニ ムカウ キョクタン シガイ リソグラフィー
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収録刊行物
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- 光学 = Japanese journal of optics : publication of the Optical Society of Japan
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光学 = Japanese journal of optics : publication of the Optical Society of Japan 41 (3), 144-148, 2012-03
東京 : 日本光学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520572358911462656
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- NII論文ID
- 10030157451
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- NII書誌ID
- AN00080324
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- ISSN
- 03896625
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- NDL書誌ID
- 023593835
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles