Fabrication of Highly Oriented Si:SiO2 Nanoparticles Using Low Energy Oxygen Ion Implantation during Si Molecular Beam Epitaxy

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  • Fabrication of Highly Oriented Si SiO2
  • Si-MBE中の低エネルギー酸素イオン注入を用いたSiO2中に配向を制御したSiナノ結晶粒子の作製

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資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌

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  • JFCC review

    JFCC review (8), 42-45, 1996-11

    名古屋 : ファインセラミックスセンター

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