The Photopolymer Science and Technology Award--Francis M.Houlihan,et al."A Commerially Viable 193 nm Single Layer Resist Platform"
書誌事項
- タイトル別名
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- Photopolymer Science and Technology Awa
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収録刊行物
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- Journal of photopolymer science and technology
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Journal of photopolymer science and technology 11 (1), 5-8, 1998
Chiba : The Society of Photopolymer Science and Technology
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1521136280404594816
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- NII論文ID
- 40005351748
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- NII書誌ID
- AA11576862
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- ISSN
- 09149244
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- NDL書誌ID
- 4525848
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZP48(科学技術--印写工学)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles