マイクロ波プラズマCVD法によるa-SiGe:H膜の作成--成膜圧力と反応ガス組成の影響
書誌事項
- タイトル別名
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- マイクロハ プラズマ CVDホウ ニ ヨル a SiGe H マク ノ サクセ
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抄録
記事分類: 物理学--分子・物性
収録刊行物
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- 電子写真学会誌
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電子写真学会誌 28 (1), p44-51, 1989
東京 : 電子写真学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1521699230842568448
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- NII論文ID
- 40004297889
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- NII書誌ID
- AN00261409
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- ISSN
- 0387916X
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- NDL書誌ID
- 3229620
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles