Oxygen Dispersive Diffusion Induced Bias stress Instability in Thin Active Layer Amorphous ln-Ga-Zn-O Thin-Film Transistors

詳細情報 詳細情報について

• CRID

  1523388079999499648

• NII論文ID

  10031159826

• NII書誌ID

  AA12295133

• ISSN

  18820778

• NDL書誌ID

  024357147

• Web Site

  http://id.ndl.go.jp/bib/024357147

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I024357147

• 本文言語コード

  en

• NDL 雑誌分類

  • ZM35(科学技術--物理学)

• データソース種別

  • NDLサーチ
  • CiNii Articles