表面拡散モデルを含むアルミスパッタ形状シミュレーションシステムの開発
書誌事項
- タイトル別名
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- Development of Aluminum sputter profile simulation including surface diffusion model
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説明
アルミニウムのスパッタ装置シミュレーションシステムを開発した。このシステムはモンテカルロ法を用いた軌道計算部と、表面拡散計算部と、粒子の入射判定方法を改善した軌道計算部より成り立っている。このシステムを用いて計算した結果は、実測形状と良く一致し、形状計算は、130MIPSのEWSで約20分であり、実用レベルであることが分かった。またアルミニウムの形状計算には表面拡散モデルが不可欠であることが分かった。更に、表面拡散は300℃では、バルクの拡散係数より約百万倍大きいことがわかった。
収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告. VLD, VLSI設計技術
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電子情報通信学会技術研究報告. VLD, VLSI設計技術 96 (258), 1-5, 1996-09-26
一般社団法人電子情報通信学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1570009752432026240
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- NII論文ID
- 110003294372
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- NII書誌ID
- AN10013323
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles