高周波スパッタ蒸着法による多結晶Si薄膜の低温成長に関する研究(第4報) -結晶粒の大粒径化に関する検討-

この論文をさがす

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1571417124029473536
  • NII論文ID
    10002806200
  • NII書誌ID
    AN1018673X
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

問題の指摘

ページトップへ