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パワー半導体製造工程における高温熱処理とシリコン結晶欠陥の研究
Bibliographic Information
- Title
- パワー半導体製造工程における高温熱処理とシリコン結晶欠陥の研究
- Other Title
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- A study on high-temperature annealing and silicon crystal defects for power emiconductor manufacturing process
- Author
- 中澤, 治雄
- University
- 横浜国立大学
- Types of degree
- 博士（工学）
- Grant ID
- 甲第409号
- Degree year
- 2014-03-26
Description
収集根拠 : 博士論文（自動収集）
資料形態 : テキストデータ
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1910020910674328192
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- NII Article ID
- 500001613250
- 500000975363
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- HANDLE
- 10131/8537
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
-
- IRDB
- NDL Search